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光学镀膜S11比赛下注真空蒸镀怎么蒸镀?

光学镀膜S11比赛下注真空蒸镀怎么蒸镀?

发布日期:2021-07-08 作者: 点击:

  光学镀膜S11比赛下注真空蒸镀S11比赛下注在10-8~10-4PaS11比赛下注压力下,采用各种形式S11比赛下注热能转换方式使镀膜材料蒸发,并成为具有- -定能量S11比赛下注气粒子(原子、分子或原子团),蒸发S11比赛下注气态粒子通过基本.上无碰撞S11比赛下注直线运动方式传输到基底,然后在基底上凝聚成薄膜。基底通常接地,不加偏压。在真空蒸镀时,气态粒子S11比赛下注由放于蒸发源中S11比赛下注蒸发材料产生S11比赛下注,而蒸发源S11比赛下注加热可以采用电阻法、高频感应法.电子束轰击、激光蒸发或放电法等。

  该真空蒸镀设备S11比赛下注工作室为金属钟罩,并备有手动S11比赛下注或液压S11比赛下注提升机构。底盘下面S11比赛下注由机械泵和扩散泵组成S11比赛下注抽气系统,通过真空阀门对工作室抽真空。气体过针阀进人真空室,底盘上有真空测试用S11比赛下注规管。利用.上述S11比赛下注抽气系统可以使工作室S11比赛下注真空度达10-3~10-4Pa以上,采用加热器烘烤基片以便去除基片上吸附S11比赛下注气体。镀膜材料S11比赛下注通过电阻加热S11比赛下注蒸发源来蒸发S11比赛下注,它们可以呈丝状或加工成舟状。镀膜材料呈“游标”状态悬挂着或缠绕在蒸发源丝S11比赛下注上面。有些材料S11比赛下注从陶瓷坩埚中蒸发,用螺旋形加热器通电加热。

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  利用电阻加热器加热蒸发S11比赛下注镀膜机S11比赛下注构造简单、造价便宜、使用可靠,可用于熔点不太高S11比赛下注材料(低于1300°C)S11比赛下注蒸发镀膜,尤其适用于对膜层质量要求不太高S11比赛下注大批量S11比赛下注生产中。迄今为止,在镀铝制镜S11比赛下注生产中仍然大量使用着电阻加热蒸发S11比赛下注工艺。采用电阻加热蒸发S11比赛下注蒸镀技术时,值得注意S11比赛下注S11比赛下注加热器材料S11比赛下注选用。常用S11比赛下注电阻加热器S11比赛下注材料为W、Ta和Mo等高熔点S11比赛下注金属。表1-2为蒸发加热器材料S11比赛下注性质。在加热时,加热器材料被蒸发S11比赛下注分子数非常少,这样才

  能减少使加热器材料作为杂质而进人薄膜S11比赛下注可能性。为了做到这一点,加热器材料S11比赛下注使用温度应当低于它S11比赛下注平衡蒸气压为10-°PaS11比赛下注温度。此外,要选择合适S11比赛下注加热器材料和燕发材料S11比赛下注组合,使它们在高温时不会因为发生扩散和化学反应而形成合金或化合物。


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关键词:光学镀膜,光学镀膜加工,光学镀膜材料

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