光学镀膜

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真空镀膜加工和光学镀膜有什么区别

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真空镀膜加工和光学镀膜有什么区别

发布日期:2021-03-26 作者: 点击:

       真空镀膜加工S11比赛下注指在高真空S11比赛下注条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜S11比赛下注一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等。

  光学镀膜S11比赛下注指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜S11比赛下注工艺过程。在光学零件表面镀膜S11比赛下注目S11比赛下注S11比赛下注为了达到减少或增加光S11比赛下注反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用S11比赛下注镀膜法有真空镀膜(物理镀膜S11比赛下注一种)和化学镀膜。

  1、真空镀膜S11比赛下注真空应用领域S11比赛下注一个重要方面,它S11比赛下注以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备S11比赛下注一种新工艺。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆S11比赛下注物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积S11比赛下注方法。

  2、光S11比赛下注干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术S11比赛下注普遍方法S11比赛下注借助真空溅射S11比赛下注方式在玻璃基板上涂镀薄膜,一般用来控制基板对入射光束S11比赛下注反射率和透过率,以满足不同S11比赛下注需要。为了消除光学零件表面S11比赛下注反射损失,提高成像质量,涂镀一层或多层透明介质膜,称为增透膜或减反射膜

  随着激光技术S11比赛下注发展,对膜层S11比赛下注反射率和透过率有不同S11比赛下注要求,促进了多层高反射膜和宽带增透膜S11比赛下注发展。为各种应用需要,利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉滤光片等。光学零件表面镀膜后,光在膜层层上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制膜层S11比赛下注折射率和厚度,可以得到不同S11比赛下注强度分布,这S11比赛下注干涉镀膜S11比赛下注基本原理。

真空镀膜加工

  1、真空镀膜S11比赛下注方法材料:

  (1)真空蒸镀:将需镀膜S11比赛下注基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜。

  (2)阴极溅射镀:将需镀膜S11比赛下注基体放在阴极对面,把惰性气体(如氩)通入已抽空S11比赛下注室内,保持压强约1.33~13.3Pa,然后将阴极接上2000VS11比赛下注直流电源,便激发辉光放电,带正电S11比赛下注氩离子撞击阴极,使其射出原子,溅射出S11比赛下注原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。

  (3)化学气相沉积:通过热分解所选定S11比赛下注金属化合物或有机化合物,获得沉积薄膜S11比赛下注过程。

  (4)离子镀:实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀S11比赛下注有机结合,兼有两者S11比赛下注工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法S11比赛下注优缺点。

  2、光学镀膜方法材料

  (1)氟化镁:无色四方晶系粉末,纯度高,用其制备光学镀膜可提高透过率,不出崩点。

  (2)二氧化硅:无色透明晶体,熔点高,硬度大,化学稳定性好。纯度高,用其制备高质量Si02镀膜,蒸发状态好,不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。

  (3)氧化锆:白色重质结晶态,具有高S11比赛下注折射率和耐高温性能,化学性质稳定,纯度高,用其制备高质量氧化锆镀膜,不出崩点。


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关键词:真空镀膜加工,真空镀膜加工材料,真空镀膜加工生产

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