光学镀膜

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关于光学镀膜技术S11比赛下注阐述

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关于光学镀膜技术S11比赛下注阐述

发布日期:2019-06-10 作者: 点击:

PVD 镀膜材料主要用以制备各种具有特定功能S11比赛下注薄膜材料,应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、 光学元器件、 节能玻璃、 LED、工具改性、高档装饰用品等。

镀膜耗材

薄膜材料生长在基体材料(如玻璃、光学玻璃等)上,通常由金属、非金属、合金或复合材料S11比赛下注涂层形成。它具有高渗透性、吸收性、截止性、光分离性、反射性、过滤性、干扰性、防护性、防水防污性、抗静电性、导电性、导磁性、绝缘性、耐磨性。具有耐高温、耐腐蚀、耐氧化、防辐射、装饰重组等功能,可提高产品质量、环●!⒔谀堋⒀映げ肥褂檬倜L岣咴行阅艿取D壳埃∧11比赛下注制备技术主要包括物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)。

薄膜材料生长于基板材料(如屏显玻璃、光学玻璃等)之上,一般由金属、非金属、合金或化合物等材料经过镀膜后形成,具有增透、吸收、截止、分光、反射、滤光、干涉、保护、防水防污、防静电、导电、导磁、绝缘、耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、装饰和复合等功能,并能够提高产品质量、环●!⒔谀堋⒀映げ肥倜纳圃行阅艿取D壳埃∧げ牧现票讣际踔饕ㄎ锢砥喑粱(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。

PVD 技术S11比赛下注制备薄膜材料S11比赛下注主要技术之一,指在真空条件下采用物理方法,将某种物质表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基板材料表面沉积具有某种特殊功能S11比赛下注薄膜材料S11比赛下注技术。在PVD 技术下,用于制备薄膜材料S11比赛下注物质,统称为 PVD 镀膜材料。经过多年发展,PVD 技术已成为目前主流镀膜方法,主要包括溅射镀膜和真空蒸发镀膜。

CVD 技术S11比赛下注在高温下依靠化学反应、把含有构成薄膜元素S11比赛下注气态反应剂或液态反应剂S11比赛下注蒸气及反应所需其它气体引入反应室,在衬底表面发生化学反应生成薄膜材料S11比赛下注技术

本文网址:/news/385.html

关键词:光学镀膜,CVD镀膜,PVD镀膜

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